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研究生: 張嘉耘
Chia-Yun Chang
論文名稱: 光達專利強度指標之相關性研究
A Study on Correlation of LiDAR Patent Strength Indicators
指導教授: 劉國讚
Kuo-Tsan Liu
口試委員: 管中徽
Chung-Huei Kuan
蔡鴻文
Hung-Wen Tsai
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 應用科技學院 - 專利研究所
Graduate Institute of Patent
論文出版年: 2021
畢業學年度: 109
語文別: 中文
論文頁數: 106
中文關鍵詞: 光達專利指標專利強度指標專利個案強度指標相關性餘弦相似度
外文關鍵詞: LiDAR, patent indicator, patent strength indicator, patent case strength indicator, Cosine Similarity, correlation
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  • 本研究主要以光達技術出發,進行美國專利商標局(USPTO)之專利檢索,探討相關的六大關鍵技術:固態光達(Solid State LiDAR)、矽光子光學耦合(Silicon Photonics Optical Coupling)、複合積體化雷射(Hybrid Laser)、光學光束轉向控制(Optical Beam Steering)、光學相位陣列(Optical Phase Array / Optical Phased Array)、以及可調波長雷射(Tunable Laser),分析美國專利申請趨勢,比對主要申請人的四項專利強度指標:專利總強度、相對功效優勢(RPA)、相對技術優勢(RTIC)、以及相對專利佈局優勢(RPPC)等相對優勢的專利檢索分析報告。

    而後,延伸以專利個案的角度,探討各項專利指標、專利個案強度指標之相關性研究,其中包含四項專利個案強度指標:傳統型專利個案總強度、跨領域技術範圍廣度、專利權利範圍廣度,以及餘弦相似度(Cosine Similarity)等。

    其中,專利個案與最接近先前技術之餘弦相似度(Cosine Similarity),是本次專利個案之專利分類所構成之向量,計算該個案與最接近之先前技術的相似程度,相似程度高者,則其專利強度低。

    本研究首要目的在於檢視餘弦相似度(Cosine Similarity)與其他傳統專利個案強度指標之相關性,以統計學方法檢視其是否具顯著相關性;其次,本研究藉由專利強度指標評估主要專利權人之專利強度,其中包含各專利權人之各項專利相對優勢。


    This study mainly started with LiDAR technologies, and conducted a patent search by the United States Patent and Trademark Office (USPTO). The six core technologies related with LiDAR are “Solid State LiDAR”, “Silicon Photonics Optical Coupling”, “Hybrid Laser”, “Optical Beam Steering”, “Optical Phased Array”, and “Tunable Laser”. This patent search report analyzes the trend of US patent applications, and provides four patent strength indicators of major applicants: total patent strength, revealed patent advantage (RPA), relative technology integration capability (RTIC), and relative patent portfolio capability (RPPC).

    Then, from the perspective of patent cases, it explores the correlation between patent indicators and patent case strength indicators, including four patent case strength indicators: the total strength of patent cases, the cross-domain technology breadth, the patent scope breadth, and cosine similarity, which calculates the number of CPC main group classification between per patent case and the examiners’ citation. It conducts a method to assist patent examiners in assessing the novelty and non-obviousness of new patents.

    The Cosine Similarity which the patent case and the closest prior art is the vector formed by the patent classification of this patents. The degree of similarity between the case and the closest prior art is calculated. If the similarity is high, then its patent strength is low.

    The primary purpose of this study is to examine the correlation between Cosine Similarity and other traditional patent case strength indicators, that uses statistical methods to examine whether it has a significant correlation; secondly, this study uses patent strength indicators to evaluate the patent strength of major patentees, which includes the relative advantages of each patentee.

    目錄 第一章 緒論 第一節 前言 第二節 研究背景 第三節 研究目的 第四節 文獻探討 第一項 國內專利強度指標文獻 第二項 國外專利強度指標文獻 第三項 其他參考文獻 第五節 研究方法與流程 第二章 光達六大關鍵技術美國專利趨勢分析 第一節 前言 第二節 檢索策略與範圍界定 第一項 檢索策略 第二項 檢索式 第一款 固態光達(Solid State LiDAR)檢索式 第二款 矽光子光學耦合(Silicon Photonics Optical Coupling)檢索式 第三款 複合積體化雷射(Hybrid Laser)檢索式 第四款 光學光束轉向控制(Optical Beam Steering)檢索式 第五款 光學相位陣列(Optical Phase Array / Optical Phased Array)檢索式 第六款 可調波長雷射(Tunable Laser)檢索式 第三節 美國專利商標局(USPTO)專利趨勢分析 第一項 美國歷年專利申請趨勢 第二項 技術生命週期 第三項 國家(申請人國籍)專利申請趨勢 第四項 國家(申請人國籍)專利指標分析 第五項 主要IPC國際分類號分析 第四節 美國專利商標局(USPTO)主要申請人專利分析 第一項 主要申請人專利案件統計分析 第二項 主要申請人六大關鍵技術之專利案件統計分析 第五節 美國專利商標局主要申請人專利強度指標相關性分析 第一項 前言 第二項 專利總強度 第三項 主要申請人相對功效優勢(RPA) 第四項 主要申請人相對技術優勢(RTIC) 第五項 主要申請人相對專利佈局優勢(RPPC) 第六項 專利強度指標相關性分析 第三章 光達六大關鍵技術美國專利個案強度分析 第一節 前言: 專利個案強度的兩大類型 ── 「佈局強度」和「技術強度」 第二節 人工閱讀與篩選 第三節 專利個案強度分析方法一:傳統型專利個案總強度 第一項 定義與研究標的 第二項 研究方法與流程 第三項 研究結果 第四節 專利個案強度分析方法二:跨領域技術範圍廣度 第一項 定義與研究標的 第二項 研究方法與流程 第三項 研究結果 第五節 專利個案強度分析方法三:專利權利範圍廣度 第一項 定義與研究標的 第二項 研究方法與流程 第六節 專利個案強度分析方法四:專利個案與最接近先前技術之餘弦相似度 第一項 定義與研究方法 第二項 研究結果 第四章 相關性分析 第一節 傳統型專利個案總強度之相關性 第二節 跨領域技術範圍廣度之相關性 第三節 專利權利範圍廣度(Patent Scope)之相關性 第四節 餘弦相似度之相關性 第五節 相關性結論 第五章 結論與建議 第一節 以專利強度指標分析專利申請人之優、劣勢 第二節 專利指標、專利個案強度指標之相關性比對 第六章 參考文獻

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