檢索結果：共84筆資料 檢索策略： "朱瑾".ccommittee (精準)
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利用低溫電漿於高分子基材進行表面改質及活化，會改變其表面物性與化性，例如親疏水性、表面活性以及表面形貌，但又能夠保有塊材之整體性質，而此項技術已被廣泛應用。然而，常壓電漿技術比傳統的低溫電漿技術無需…
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Copper based amorphous alloy have a great attention in the recent years because of its high glass f…
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本研究為使用鋁金屬誘發結晶法於非晶矽薄膜中，經由加熱退火後促使非晶矽轉化成多晶矽，使用此方法之優點為可在簡易、低成本的製程中得到晶粒較大之多晶矽薄膜，其中誘發的製程若為操作在低溫下，又可稱為低溫鋁誘…
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本論文藉由物理氣相沉積系統(PVD)沉積矽薄膜於自組裝單分子薄膜(SAM)改質後的石英基板，並利用固相結晶法(SPC)使非晶矽薄膜結晶為多晶矽薄膜，最後使用SEM觀察表面型態；Raman光譜、XRD…
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近年來，研究者紛紛進行CIGSe太陽能薄膜電池非真空製備的研究，非真空製備方法極多，但其薄膜緻密程度為決定光電轉換效率的關鍵性。 本實驗利用油墨網印法製備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池，以不同組成模式(CI…
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氮化鉻薄膜擁有良好的機械性質與抗氧化能力，但硬度略低於其他硬膜，實驗將鋯與矽同時加入氮化鉻薄膜中以期改善顯微結構與機械性質。研究使用反應式雙極非對稱脈衝直流磁控濺鍍法製備含鋯量自0.49 at.%到…
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本研究重點以氬銲(GTAW)為製程，以不銹鋼SUS 309L材料為緩衝層，被覆於母材SUS 316L上，再於緩衝層上方被覆三層 In 52M，期望藉由緩衝層之銲接參數設計，改善SUS 316L母…
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本論文使用磁控式共濺鍍系統沈積Cu-SiO2複合薄膜，並探討含量相異的銅在薄膜內的析出及薄膜電性。實驗第一部分是以鋁片為基材沈積Cu-SiO2薄膜，再以XPS量測不同濺鍍條件下，銅在Cu-SiO2薄…
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近年來，非破壞性表面增強拉曼散射光譜已被廣泛的運用在諸多領上，如生物體內顯影、生醫檢測、重金屬與農藥殘留檢測以及反應即時監等。因為獨特的局部表面電漿共振效應，使得金屬奈米粒子被廣泛地運用在表面增強拉…
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本研究主要以反應性濺鍍來成長NbNx薄膜於銅-矽基材多層膜系統中擴散阻障層失效機制的研究。觀察N2/Ar流量比對NbNx薄膜之沈積速率、N/Nb原子比、結晶結構、電阻率及表面型態之影響。實驗結果顯示…