檢索結果:共8筆資料 檢索策略: "physical design".ekeyword (精準)
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繞線問題是超大型積體電路實體設計中非常重要的一部分,隨著半導體製程 不斷的進步,晶片電路複雜度也與日俱增,單位面積的繞線密度也隨之大幅提 升,繞線問題佔整體晶片設計效能的比例也提高了許多。然而,在現…
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多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
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由於下一代微影技術的延遲,對於現今10 奈米的製程節點,多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中,我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中,繞線器…
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定向自組裝多圖案混合式微影(directed selfassembly technology with multiple patterning lithography)非常適用於製造 10 奈米以下…
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電路耦合效應是電路實體設計中的重要問題之一,此問題通常是在繞線階段後,產生的線段資訊來做運算與分析,傳統演算法在求解的過程中會根據問題的不同而造成不同的運算複雜度。為了解決此議題,本文提出了一種用來…
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定向自組裝 (directed self-assembly technology) 的技術在10 奈米以 下的導通孔 (contact/via) 的製造上展現了其優勢,為了讓導通孔有 足夠的重疊精度…
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使用嵌段共聚物(block copolymers, BCP)的定向組裝技術 (Directed self-assembly, DSA)已經是一項具有發展性的光刻技術,可以在集成電路上生成微小的圖像。…
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電路時序延遲逐漸成為決定電路效能的重要因素,時鐘樹的設計也日益重要。樹狀結構時鐘樹(tree-based clock network)由於擁有容易實現與分析的優勢,因此特別適合用於規模較小之晶片實作…