檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "RHEED".ekeyword (精準)
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本研究在濺鍍壓力為5 mTorr及載台溫度為250℃的條件下成功開發出矽膜濺鍍磊晶技術,其所需真空度為1.0×10-6 Torr。另外在檢測磊晶矽膜的品質部份,本研究以Raman、RHEED系統量測…
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本論文乃以未來世代高效矽晶太陽能電池的技術發展為議題,針對矽 晶以及鍺晶可能製作矽、鍺異質接合,分別以射頻電漿輔助化學氣相沉積法將氫化非晶矽及氫化非晶鍺薄膜沉積於鍺晶及矽晶上,以反射式電子高能…