檢索結果：共35筆資料 檢索策略： "鍺".ckeyword (精準)
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我們使用密度泛函數(DFT)法研究SiH4, GeH4, Si2H6, and Ge2H6分解吸附與氫遷移和脫附於SiGe(100)-2x1表面。由於鍺加入於Si(100)-2x1表面內影響了dim…
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摘要 本文使用 ab initio 分子軌域計算，配合過渡態理論求得的反應速率常數，以尋找矽烷、鍺烷反應系統合成鍺化矽薄膜程序的主要反應發生途徑。有關量子化學計算，皆採用 B3LYP/6-31G[…
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本論文材料有三種，分別是Ge-Sn異質結構奈米線， Ge-Sb異質結構奈米線和GeSe2奈米材料，進行生長及元件的製程並探討對應電性表現。 第一部分為Ge-Sn異質結構奈米線，使用AAO並以壓力鑄造…
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本論文主要包含兩個研究主題，一為矽鍺雙極金氧半發光元件，另一為矽鍺雙極金氧半發光元件，文中比較數種佈局的特型。 第一部分討論發光元件的設計，利用矽鍺基雙極金氧半製程設計發光元件，探討數種佈局的發光效…
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本論文乃以未來世代高效率矽晶太陽能電池的技術發展為議題，針對鍺晶製作可能的鍺晶異質接合，分別探討鍺晶表面的清洗以及利用氫化非晶矽薄膜層作為鈍化層的效應。 我們發現以傳統矽晶RCA的清洗程序未能通用…
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本篇論文對矽鍺晶片之多重接面太陽能電池之探討，使用鈀奈米粒子做接合層，以進行退火壓合，使兩晶片完成接合。我們利用團聯式共聚物，均勻塗佈於晶片表面，並令其吸附含鈀溶液，成長鈀奈米粒子，再經氫器/氬氣電…
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本論文利用壓電調制反射光譜(PzR)、光子調制反射光譜(PR)以及光激發螢光光譜(PL)研究鍺磊晶層(Ge-epilayer)及其多重量子井(MQW)結構之光學特性。 利用壓電調制反射光譜與光子調制…
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因本實驗室所建立的線上光學檢測系統於準分子雷射退火矽膜所擷取之反射率與穿透率波形，如能利用TEM斷面分析互相驗證，並觀察矽膜退火後之微結構變化將能更確定矽膜的成長機制，也間接肯定其系統的正確性，故本…
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本論文以直流磁控式濺鍍法實現矽/鍺膜同/異質磊晶，成功地在矽基板上達成矽膜和鍺膜的同異質磊晶成長，以及在鍺基板上之鍺膜同質磊晶。最後並以濺鍍磊晶成長矽膜於矽基板上之方式形成n+-p接面二極體元件。論…
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本論文乃以發展高效率矽鍺複合晶片太陽能電池製作技術為主題，考量矽晶材料所無法吸收的紅外光波波段，在矽晶之背面串聯鍺晶來吸收此波段能量，最終模式希望製作成的矽晶/鍺晶之異質接合太陽電池，以求達…