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    以射頻電漿輔助化學氣相沉積法製備 P型矽薄膜及其光電性質之研究
    • 化學工程系 /97/ 碩士
    • 研究生： 朱炳勳   指導教授： 洪儒生
    • 本研究以三甲基硼(TMB)為摻雜物，使用射頻電漿輔助化學氣相沉積系統(RF-PECVD)於玻璃基材上成長p型非晶碳化矽以及p型微晶矽薄膜，並分析其結構及光電性質，期望能製備出適用於薄膜太陽能電池的p…
    • 點閱：302  下載：0 
    • 全文公開日期 2014/07/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    以射頻矽甲烷電漿化學氣相沉積系統製備氫化非晶矽膜之研究
    • 化學工程系 /97/ 碩士
    • 研究生： 李杰   指導教授： 洪儒生
    • 本研究係用射頻電漿系統沉積氫化非晶矽薄膜，調變製程重要參數如氫氣稀釋比、基材溫度、工作壓力以及電極間距等，藉由傅立葉轉換紅外光光譜儀(FT-IR)以及紫外光/可見光光譜儀(UV-VIS)等分析方法，…
    • 點閱：290  下載：0 
    • 全文公開日期 2014/07/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)
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