檢索結果:共3筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="鑽石修整器"
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在化學機械平坦化 (Chemical Mechanical Polishing/Planarization, CMP)的製程當中,鑽石修整製通常用來修整拋光墊表面形貌以及維持工作能力,以確保製程中的…
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在化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/ Polishing, CMP)製程中,需要鑽石修整器來維持拋光墊表面之穩定性,而拋光墊表面形貌會直接影響…
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半導體為世上重大發明且與現代生活密不可分,隨著世代的進化變遷,不斷的追求微細化及線路層層堆疊而對於晶片的考驗也越來越嚴苛,全域平坦化表面將成為相當重要得關鍵技術。化學機械拋光/平坦化(Chemica…