檢索結果:共3筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="準分子雷射"
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本研究探討準分子雷射結晶化矽厚膜可行性,並以此膜製作薄膜太陽能電池。研究發現,雷射退火矽膜之最高厚度為700 nm,並出現完全溶化之碟狀結晶(Disc grain)。利用SLS法後可再室溫下產生7 …
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目前多晶矽薄膜橫向長晶製程參數研究,大多採用嘗試錯誤的方法,透過實驗室實際製程來對每一個參數進行操控,並以此來瞭解各個參數對長晶的影響。然而橫向長晶的影響參數眾多,因此這樣的方法耗力而且耗時。由於多…
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本研究建構一套準分子雷射退火矽膜再結晶特性之線上光學檢 測系統,可以線上即時檢測出非晶矽薄膜於準分子雷射退火期間反射率與穿透率之變異性,進而分析相關物理現象並提出矽膜之相變化機制。藉由線上光學檢測系…