檢索結果:共4筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="射頻磁控濺鍍"
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本研究使用射頻磁控濺鍍設備(RF Magnetron Sputtering),並分為純氬氣與通入6.2 sccm與12.5 sccm氧氣氣氛,搭配CeO2靶材以功率100 W沉積氧化鈰薄膜於矽晶片、…
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本文將利用射頻磁控濺鍍機(RF magnetron sputter)濺鍍氧化矽薄膜於可撓性基材PET上,利用單階段濺鍍技術與雙階段濺鍍技術,並改變濺鍍功率,探討其對氧化矽薄膜之表面粗糙度、表…
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以RF濺鍍來成長TaNx薄膜並觀察N2/Ar流量比對TaNx薄膜之沈積速率、N/Ta原子比、電阻率及結晶結構之影響。實驗結果顯示TaNx薄膜的沈積速率會隨著N2/Ar流量比的增加而下降;TaNx薄膜…
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近年來生醫金屬植入材常使用鐵、鈦、與鈷系合金材料為大宗,因其具有高硬度、高彈性模數等物理性質,同時具備生物惰性之優勢。然而,當此類金屬材料植入體內後,容易在界面處誘發炎症因子,進而引發異物反應和排斥…