檢索結果:共4筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="光電導特性"
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本研究利用不同參數之反向式濺鍍蝕刻法(inverse sputter etching technique)轟擊半導體材料表面以去除潛在的表面汙染物,如天然氧 化物與碳氫化合物,使其半導體-金屬接面之…
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本論文主要探討 [Ni2(HFDP)1(BPYM)1(4H2O)]·H2O (以下論文簡稱為 NiHB )疏水性金屬有機框架化合物 (metal-organic framework, MOF) 微米…
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