檢索結果:共17筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="光柵"
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光譜儀因為其需要精密光學元件組裝及繁瑣的校正程序造成市面上的光譜儀器仍然具有價格昂貴、體積龐大等缺點。晶片型光譜晶片結構包含光學接收狹縫、凹面光柵、高反射率膜鏡面,製作好的硬體設備經過校正系統後,才…
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本系統主要在光譜儀分析模擬,利用TracePro7軟體光跡模擬羅倫圓光柵分光特性。利用光柵反射出光線,於各波長主中軸上設置了一系列偵測面,藉由偵測面的輻照圖(斑點圖),搭配Matlab軟體分析得到各…
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本實驗使用原子轉移自由基聚合法(Atom transfer radical polymerization, ATRP)於圖案化矽晶圓表面進行表面起始聚合(Surface-initiated poly…
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本研究主要探討微型凹面光柵的曲面計算,及縮小尺寸的光學特性。並針對入、出射臂長的改變,造成光柵像差的解析度、焦點位置及聚焦縱深的範圍變化做為研究目的。 在設計方面,使用matlab軟體優化光柵的像差…
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本文旨在研究利用繞射光學方式結合位置感測器(PSD)來量測物體變形量之方法。將反射式薄膜光柵緊貼於待測物體上,當雷射光源照射於光柵上時,會因為繞射現象而產生繞射光,本文主要擷取+1號及-1號繞射光在…
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本研究提出一套創新的六自由度聚焦式雷射光學尺量測技術,其系統架構簡單,架設與校正容易,可用以進行精密位移及旋轉角度量測。此套量測技術的開發主要是以「光柵干涉術」為技術核心,輔以外差調制技術及自行設計…
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本研究針對機載高光譜儀遙測之特殊規格,研發一套應用於1700nm-2500nm波段之Offner高光譜儀完整設計流程。首先為了符合空中載具之飛行速度與高度以避免失焦,由理論推導來進行光學系統的設計,…
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本研究提出一套以「雙繞射」為設計概念進行系統開發的雙繞射式雷射光學尺,用以進行位移及旋轉角量測。此套雙繞射式雷射光學尺系統整合外差干涉術、光柵干涉術、雙繞射光路及分光技術等設計概念進行開發,使系統具…
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熱壓式奈米壓印微影技術僅需先使用電子束微影技術製作出所需要的模具,即可以快速且重複使用製作出奈米等級的結構,如此一來,可以省去傳統技術用來製作光柵所花費的較長時間與昂貴的設備成本。 本論文以熱壓式奈…