檢索結果：共70筆資料 檢索策略： cadvisor.raw="柯正浩"
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本研究主要是針對膠囊咖啡機中用來辨識膠囊防偽標籤的膠囊辨識模組做優化設計，因其原設計結構容易有鬆動問題造成光學辨識位置偏移，因此本研究在原設計基礎上做機構改良設計，此外也針對現有咖啡機辨識模組組裝到…
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光譜學為二十世紀以來最重要的科學之一，站有舉足輕重的地位。在食品安全、生物醫藥、環境監測、天文學等領域中應用，運用光學原理可以無損地對物質的結構和組成進行定性、定量的分析。由於傳統的光譜儀體積大、價…
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本研究欲設計波段400－1000 nm Offner形式的微型高光譜影像儀，改善從前儀器體積過大，不便攜出實驗室外使用之情形。搭配選用的光學元件，進行設計與成像分析，亦可降低製作成本。 利用光學模擬…
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The identification of elements inside materials is very essential and important part of spectrosco…
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本文探討光譜儀的系統中，利用光柵方程式將入射光分光後，會形成一階及二階以上的光波，設計高通濾波主要是先前所開發的二階線性漸變濾波器(second-order Linear Variable Filt…
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光譜儀因為其需要精密光學元件組裝及繁瑣的校正程序造成市面上的光譜儀器仍然具有價格昂貴、體積龐大等缺點。晶片型光譜晶片結構包含光學接收狹縫、凹面光柵、高反射率膜鏡面，製作好的硬體設備經過校正系統後，才…
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光譜儀的製作過程中，分為硬體與軟體，直接出廠的硬體設備無法量測到精準的光譜，必須將製作好的硬體設備經過校正系統後，才可以量測出最接近實際值的光譜參數，本研究的校正系統分為三大部分，依照校正順序依次為…
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本研究為設計波段900~1700 nm Offner系統光譜儀，選定所有架構參數，包含光源設計波段、中心波長、繞射階數、光譜成像大小、光柵條紋間距、光源發散角、曲率半徑及透鏡間距，將可以得到整個Of…
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本文設計波段400 – 1000 nm Offner系統光譜儀，設計前須選定光源發散角、光譜成像大小、凹面鏡曲率、光柵條紋間距、繞射階數，以上述規格設計Offner系統架構，定義解像方向為X方向、解…
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光譜儀及高光譜成像有多種不同形式的設計，在本文中所使用的Czerny-Turner型光譜儀配置。因其採用的硬體元件較多，其中包括入射點光源的配置、準直鏡、聚焦鏡的形狀選擇、平面繞射光柵配置及參數設計…