檢索結果:共1筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="氟" and ckeyword.raw="緩衝絕緣層"
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本論文中以一種新穎的方法探討氟在低溫複晶矽薄膜電晶體中,驅入的容易度,以及對元件特性改善的效果;並對先前的技術做比較。 我們提出的方法是,使用CF4電漿來對元件的Buffer Layer做處…