檢索結果:共2筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="基因演算法" and ckeyword.raw="射出成形"
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射出成形技術製造微米尺度光學元件較為困難,因需要同時控制多個製程參數使產品於誤差範圍內。本研究將模擬退火法(Simulated Annealing, SA)與基因演算法(Genetic Algori…
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本研究主要分析隱形眼鏡製程中,射出成形製造含菲涅爾微結構隱形眼鏡殼模及製備隱形眼鏡乾片及濕片造成之誤差對於隱形眼鏡的光學性能影響。分析形狀誤差(Form Error) Rt、平均Z軸位移量及微結構複…