檢索結果:共2筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="光源最佳化" and ckeyword.raw="多目標蟻群演算法"
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近幾十年來半導體業廣泛應用微影技術將電路設計的圖形轉印至矽晶圓基板上,但隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮,物理的極限以及因越趨複雜的設計進而產生的曝光缺陷皆是製程上必須…
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近年對於晶片的需求大幅增長,而其電路設計圖案依賴於微影技術將其轉印至矽基板上,並且隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮、單位面積下所容納的電路圖案增多以及晶片尺寸增大的趨勢…