檢索結果:共28筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="濺鍍" and ckeyword.raw="濺鍍" and ckeyword.raw="濺鍍"
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本研究提出了一種整合式陽極層離子源離子束濺鍍模組(Integrated Anode Layer Ion Source Ion Beam Sputtering Module, IAIBS),並建立粒子…
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本研究以反應式離子束濺鍍法於SiO2及玻璃基板上以三種氬氧氣體比例在基板溫度300C下沉積氧化銅及摻鋁氧化銅薄膜,探討氣體流量及摻鋁濃度(0~10 at.%)對所沉積薄膜之影響。研究結果顯示當…
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由於石墨烯在各方面的應用上皆表現出驚人的特性,人們對於石墨烯的研究及應用越來越重視,甚至有學者將它稱為能夠改變21世紀之材料。 本研究係使用PVD濺鍍配合高溫氧化及真空高溫處理之製程來製造石墨…
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本研究成功的以RF反應式濺鍍法來製備p型Zn摻雜GaN以及Zn摻雜InGaN薄膜。實驗所需要的濺鍍靶材是將不同比例的金屬In、Ga、Zn與GaN陶瓷粉末進行混合後熱壓而成的陶金靶,製備出p型Zn摻雜…
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本論文使用分子動力學模擬(molecular Dynamics, MD)模擬原子鎢/鎳濺鍍在銅基材,探討薄膜的成長機制與成長形貌,並且使用粗糙度及覆蓋率來評估薄膜品質,而模擬的濺鍍製程參數包括基材的…
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本研究成功的以RF反應式濺鍍法來製備III族氮化物薄膜,如GaN與InGaN等薄膜,濺鍍所需要的靶材則是將不同比例的金屬In、Ga與GaN陶瓷粉末混合後熱壓而成的陶金靶,靶材中的Ga含量需小於GaN…
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本實驗成功的以RF反應式濺鍍法來製備p型Mg摻雜InGaN薄膜。並且也成功的將GaN薄膜與摻雜Mg的InGaN薄膜堆疊製作成二極體觀察其電特性。於本實驗中我們利用EDS、SEM、AFM、XRD、霍爾…
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本論文以直流磁控式濺鍍法實現矽/鍺膜同/異質磊晶,成功地在矽基板上達成矽膜和鍺膜的同異質磊晶成長,以及在鍺基板上之鍺膜同質磊晶。最後並以濺鍍磊晶成長矽膜於矽基板上之方式形成n+-p接面二極體元件。論…
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氧化銦鍚(indium tin oxide, ITO)在可見光範圍具有量好的導電性及透光性,因此在光學元件上常利用ITO來增加載子的傳導與收集。以單晶矽太陽能電池為例,除了可以做為透明導電層之外,還…
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近年來,許多研究者紛紛投入CIGSe薄膜太陽能電池真空製程之研究,而真空製程方式極多,主要分為濺鍍與蒸鍍,本實驗使用真空濺鍍當作主要製程。 本實驗是利用不同靶材濺鍍出CIGSe薄膜,再將陶瓷CIGS…