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研究生: 鄧恆發
Heng-Fa Deng
論文名稱: 金氧半場效電晶體輻射劣化與雜訊分析
The analysis of the radiation effect and low frequency noise in MOSFETs
指導教授: 劉政光
Cheng-Kuang Liu
口試委員: none
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 電資學院 - 電子工程系
Department of Electronic and Computer Engineering
論文出版年: 2021
畢業學年度: 80
語文別: 中文
論文頁數: 102
中文關鍵詞: 金氧半場效電晶体輻射劣化雜訊分析伽瑪輻射平帶電壓臨限電壓陷阱能階微變理論
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  • 金氧半場效電晶體,因其高輸入阻抗,體積小,及較成熟的制程,已成極為重要的元

    件,而輻射的效應,對輻射環境的元件,為一重要的課題。

    金氧半場效電晶體受伽瑪輻射照射后,明顯影響平帶電壓V 向負方向增加,另外臨

    限電壓V ,為了補償氧化層內正電荷的增加,亦隨之增加。

    本文利用DLTS的量測技術,求得待測元件的陷阱能階,及連續性介面狀態密度在能帶

    中分布的情形,并由后者,探討照射對其介面狀態密度的影響。

    最后,由DLTS量測的結果,并依循數目微變理論,探討雜訊模型的適用性,依此模型

    比較各元件的雜訊值,我們發覺劑量最大的元件雜訊值最大。


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