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    1

    Faster RCNN應用於自適應碳化矽基板缺陷辨識
    • 機械工程系 /111/ 碩士
    • 研究生: 曾孟賢 指導教授: 鄭正元
    • 碳化矽是一種具有優異電子特性和高熱穩定性的半導體材料,4H導電型碳化矽基板作為高功率半導體元件製造中的最常用也最重要的材料,其中晶體缺陷對對後續元件的品質有很大的影響,輕則元件效率降低重則元件失效,…
    • 點閱:277下載:0
    • 全文公開日期 2033/07/28 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    2

    二硫化鉬複合結構之光電特性分析
    • 電子工程系 /110/ 碩士
    • 研究生: 曾翌進 指導教授: 黃柏仁
    • 點閱:374下載:0
    • 全文公開日期 2024/09/14 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    3

    使用金屬矽化物共晶合金與石墨之共蒸鍍合成碳化矽之研究
    • 化學工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 邱懿安 指導教授: 洪儒生
    • 本論文針對碳化矽的低溫製備,考慮利用具有低共晶點的金屬矽化物合金作為合成碳化矽的矽來源,利用金屬矽化物合金比起原始組成之金屬有熔點急劇下降的特性,期望在較低的溫度下使其與活性碳反應來生成碳化矽鍵…
    • 點閱:248下載:1

    4

    光觸媒催化輔助於單晶4H-碳化矽晶圓研光複合盤製造之研究
    • 機械工程系 /108/ 碩士
    • 研究生: 林寬 指導教授: 陳炤彰
    • 電動汽車、再生能源及快速充電等高功率元件的應用矽功率元件已無法滿足市場需求,因此單晶碳化矽 (SiC) 相較於單晶矽具有高寬能隙、高崩潰電壓及高熱傳導率等特性較適合用於高功率元件,然而單晶碳化矽具有…
    • 點閱:256下載:5

    5

    以Ar/O2感應耦合電漿低溫氧化4H碳化矽初期階段之探討
    • 化學工程系 /110/ 碩士
    • 研究生: 許兆宏 指導教授: 洪儒生 陳良益
    • 本研究乃以實驗室組裝之感應耦合電漿(ICP)反應系統來低溫氧化4H碳化矽晶片以製備閘極介電層。實驗上,以連結反應腔體至X射線光電子能譜儀(XPS)測量腔體,達到階段氧化後可不需暴露試片於大氣即可進行…
    • 點閱:286下載:1

    6

    無柵磊晶石墨烯於碳化矽基板上之寬頻光響應特性研究
    • 材料科學與工程系 /110/ 博士
    • 研究生: Shivi Rathore 指導教授: 洪伯達
    • 摘要 由於石墨烯的單原子層高導電性、光學透明性、高機械強度以及可彎曲性,現今其被應用於光電元件、生物成像、化學感測器、光譜學和邏輯元件等領域。得益於石墨烯的良好載子遷移率、零能隙以及線性色散的能帶關…
    • 點閱:180下載:2

    7

    以不同應力影響之磊晶石墨烯奈米牆作為電極對於葡萄糖感測上之研究
    • 化學工程系 /101/ 碩士
    • 研究生: 楊為勛 指導教授: 戴龑
    • 在本篇論文中,吾人以帶有不同應力影響之磊晶石墨烯奈米牆(epitaxial grapheme nanowalls, EGNWs)作為電極,並將葡萄糖氧化酶酵素(glucose oxidase)固定於…
    • 點閱:320下載:3

    8

    同時添加不同粒徑碳化矽之鎂基複合材料強度之研究
    • 機械工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: 黃俊淇 指導教授: 丘群
    • 本研究使用AZ91合金作為基材,使用粒徑尺寸50 nm與1 μm SiC顆粒,固定添加碳化矽比例2 wt.%分別製成單一粒徑尺寸(50 nm、1 μm)複合材料與同時添加不同粒徑尺寸(50 nm+1…
    • 點閱:304下載:0
    • 全文公開日期 2024/08/20 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    9

    採用SiC元件12 kW 單相功率因數修正器之研製
    • 電子工程系 /107/ 碩士
    • 研究生: Sergio Fernandez Rojas 指導教授: 邱煌仁
    • 本研究並聯三個模組,設計與實現了輸出電壓 750 Vdc 功率 12 kW 之升壓型功率因數修正器。其中每一個模組都可以單獨輸出 4 kW,而 PFC 則是透過 Texas Instruments …
    • 點閱:441下載:28

    10

    以矽合金/碳靶之共濺鍍製備碳化矽暨碳化矽磊晶高速化對策模擬之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 熊子賢 指導教授: 洪儒生
    • 本論文分為兩個部分,第一部分目的在探討使用共濺鍍氣相沉積法製備碳化矽薄膜。不同於高溫(1600℃)化學氣相沉積法製備碳化矽薄膜,本研究之重點在於利用矽合金靶材和碳靶在相對低溫的下以不同射頻電漿製程參…
    • 點閱:442下載:1