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    薄膜電晶體中緩衝層之成長與銅擴散現象之研究
    • 材料科學與工程系 /93/ 碩士
    • 研究生: 陳鍵煜 指導教授: 顏怡文 李嘉平
    • 銅具有比鋁高之擴散速率,容易擴散至其他材料中形成化合物, 因此必須在銅的上方或下方,以PVD 或者是CVD 的方式沈積一層緩 衝層(Buffer Layer),目前緩衝層材料以Mo 或MoW 為主,…
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    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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