檢索結果：共168筆資料 檢索策略： "Ching-Hwa Ho".ecommittee (精準)
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捨棄式圓鋸片係由多個捨棄式刃片以環形分佈於一鎖刀盤上，可應用於各種板材、塊材或棒材的切割工作。鋸片組裝後之徑向尺寸與軸向偏擺為影響加工件表面品質與刃片壽命的關鍵因素。本研究嘗試開發一套精度檢測系統，…
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軟性印刷電路板( Flexible Printed Circuit，FPC）可簡稱為軟板，其具有高配線密度、可彈性彎曲、重量輕、厚度薄、佈線空間限制較少、靈活度高等優點，完全符合應用在電子產品上，其…
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摘要 當粒子的大小縮至極小時，可應用的範圍會因為其特性而大幅增廣。研究指出多種利用還原劑與保護劑的化學還原反應可用來合成金屬奈米團簇。在此研究中，在不使用還原劑及穩定劑情況下，以極強的飛秒雷射照射在…
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本論文主要探討以化學氣相傳導法所成長的六方晶系二硫化鉬層狀半導體與不同功函數金屬之歐姆接觸。我們利用機械剝離法移除暴露在大氣中之層狀晶體表面的電子聚集層，使我們可以探討具有新鮮表面的二硫化鉬(fre…
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本論文是利用表面光電壓光譜 (surface photovoltage spectroscopy, SPS) 、光激發螢光光譜 (photoluminescence, PL) 、無接點電場調制反射 …
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本論文以實驗室自行壓製硫氧化物電解質靶材，採用RF反應式濺鍍法進行製備氧硫化物電解質的Li2SnOS薄膜，欲將硫化物電解質之高離子傳導性與氧化物電解質之穩定性相結合，得到兼顧化學安定與高鋰離子傳導的…
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本論文以RF反應式濺鍍法製備施體-受體共摻雜n型或p型的ZnSnGaN薄膜，並探討不同摻雜比例、濺鍍功率與沉積溫度對於薄膜品質、電性及光學性質之影響。於本實驗中我們利用EDS、SEM、AFM、XRD…
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為探究使用反應式真空濺鍍機製備氮化鋁銦鎵薄膜的制程，與分析此制程下沉積之薄膜的性質。此論文設定兩組不同鋁銦比例的靶材，一組靶材包含摩爾百分比固定5%鋁，銦含量從7.5%、15%、25%的三個陶金靶，…
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本論文以RF反應性濺鍍法製備n型Sn摻雜GaN及InGaN薄膜，並將摻雜不同成分之Sn-x GaN薄膜與p-type Silicon基板堆疊製作成p-n二極體，進而觀察其電特性。於本實驗中我們利用E…