檢索結果：共64筆資料 檢索策略： "繞射".ckeyword (精準)
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本文旨在研究利用繞射光學方式結合位置感測器(PSD)來量測物體變形量之方法。將反射式薄膜光柵緊貼於待測物體上，當雷射光源照射於光柵上時，會因為繞射現象而產生繞射光，本文主要擷取+1號及-1號繞射光在…
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本研究探討飛秒雷射對金屬鍍層加工後的狀況，飛秒雷射具有冷加工之稱，加工機制不同於傳統長脈衝型雷射的光熱加工，而是由光化學機制打斷材料鍵結，移除材料，依此特性能得到良好的加工表面。實驗藉由進行不同加工…
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本文旨在探討一種有關變形量的量測方式，將一片反射式的光柵薄膜緊密黏貼在待檢測的物體上，並使用雷射照射在光柵上，此時光柵會產生繞射光，當待檢測的物體有變形量時，光柵片也會隨之變形，而使得光柵的條紋密度…
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本論文的合金成分為鐵-20錳-2鋁-0.4碳(wt%)，而此合金鋼為沃斯田體鋼。合金所經之處理為先經熱鍛冷軋後再施以1100°C高溫固溶處理及低溫時效處理。 合金經固溶處理後，沃斯田體晶粒內有條狀麻…
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本研究目的主要開發可微調式射壓成形技術(μ-Injection Compression Molding, μ-ICM)，並應用此技術製作塑膠繞射光學元件成品，探討微射壓成形製程參數對繞射光學元件表面…
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以往相位量測法，常用於表面連續變化的量測，而對於階級跳動表面（例如光柵），則不易進行。本研究利用現有的設備建構一組改良式麥克森干涉儀，並結合光學顯微鏡，針對奈米級的光柵量測其線寬及階高。干涉術中加入…
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在高光譜成像系統的開發過程當中，而在此系統中，一個能夠使得入射光同時於偵測器上水平及垂直方向聚焦的光柵系統為最關鍵的元件之一。本研究期望能夠藉由設計一可變條紋間距式之光柵使得高光譜成像系統不需如傳統…
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半導體元件是由數層不同的厚度且材質互異的薄膜所構成，鎢薄膜做為柱塞(Plug)的用途，化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)是半導體製程中全面平坦化(G…
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本研究以光柵干涉術作為主要的量測基礎，提出了一套新式的微型化雙繞射共路徑式線性光學尺，其系統架構簡單，架設及校正容易，可用以進行精密的大行程位移量測。我們利用自行設計的稜鏡配合反射式光柵建構出「共路…
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本文研究的主要目的是以X 射盄繞射之方法推測混凝土受火害的程度。研究以試驗為 主，使用三種水灰比之混凝土試體。分別以每分鐘1.5 ℃、2.5 ℃兩種升溫速率及0 、30、60分三種最高溫延時等升…