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  • 檢索結果：共6筆資料 檢索策略： "拋光墊性能".ckeyword (精準)


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    1
    銅膜化學機械拋光之軟拋墊磨耗率與性能分析研究
    • 機械工程系 /109/ 碩士
    • 研究生： 廖秉鋐   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究 之目的 為 研發線上量測軟拋墊之 磨耗率 (Pad Wearing Rate, PWR)與 性能指標應用於化學機械拋光之製程 透過 先前 開 發之動態量測 拋光墊性能指標系統 以 自行研發 …
    • 點閱：209  下載：0 
    • 全文公開日期 2024/08/26 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/08/26 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/08/26 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

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    化學機械拋光製程能量分析應用於拋光墊研究
    • 機械工程系 /109/ 碩士
    • 研究生： 余懿展   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究目的主要在進行後段導線製程 (Back End of Line, BEOL)中，銅導線的化學機械拋光之化學能與機械能佔比分析。由銅膜晶圓、鉭膜晶圓之化學機械拋光製程實驗，藉由集合式電錶即時觀測…
    • 點閱：288  下載：0 
    • 全文公開日期 2024/08/27 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/08/27 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/08/27 (國家圖書館：臺灣博碩士論文系統)

    3
    動態量測拋光墊系統於修整性能與銅膜晶圓化學機械平坦化之相關性研究
    • 機械工程系 /108/ 碩士
    • 研究生： 廖偉程   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究延續蔡明城開發之動態量測拋光墊性能指標系統，透過彩色共軛焦感測器架設於CMP機台上，利用拋光機盤面旋轉與搖臂搖擺達到拋光墊大面積掃描，利用自製軟體分析其表面訊號，計算拋光墊非均勻度(PU)、壽…
    • 點閱：279  下載：1 

    4
    線上拋光墊性能監測之彩色共軛焦系統取樣分析
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 陳俊臣   指導教授： 陳亮光 、 陳炤彰
    • 本研究主要為研發線上拋光墊監測系統，透過彩色共軛焦量測系統架設應用於旋轉式拋光機台，利用拋光盤面的旋轉運動以及搖臂的搖擺旋轉運動，搭配彩色共軛焦系統擷取高度資訊，進行線上監測之拋光墊表面形貌的掃描及…
    • 點閱：312  下載：3 

    5
    拋光墊性能分析於淺溝槽隔離化學機械拋光製程研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 王詩堯   指導教授： 陳炤彰
    • 化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)目前已被廣泛應用於IC產業中，隨著近年來半導體線寬不斷縮減，CMP製程之穩定性與重現性不斷面臨挑戰。而在…
    • 點閱：264  下載：3 

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    開發線上監控量測方法與系統應用於拋光墊性能水準分析之研究
    • 機械工程系 /104/ 碩士
    • 研究生： 蔡明城   指導教授： 陳炤彰
    • CMP(Chemical-Mechanical Planarization)為化學機械平坦化製程被應用於IC製造。在半導體線寬縮減的迫切需求下，穩定性和可用性於CMP製程已成為非常重要的課題。然而目…
    • 點閱：325  下載：8 
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