檢索結果：共68筆資料 檢索策略： "微影".ckeyword (精準)
個人化服務 ：
排序：
每頁筆數：
已勾選0筆資料
1
本研究應用浸潤式微影概念於先前實驗室研發設計的顯微鏡式DMD(Digital Micromirror Device)無光罩微影系統(Maskless Photolithography System)…
2
由於下個世代的微影技術發展嚴重落後，多重圖案微影技術被視為最有展望能突破20 奈米限制的技術。自動對準多圖案微影技術(self-aligned multiple patterning)透過間隙壁(s…
3
微影製程是不斷發展的半導體產業中非常重要技術之一，這項技術利用光學投影將線路結構曝光於晶圓上，製造出微米甚至是奈米等級尺寸之電路。相對於傳統的微影製程，數位微影製程不再需要使用光罩，而是透過各種光學…
4
曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一，近年來製程中對精密度要求不斷提高，並要求更高解析度更小的線寬，使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
5
傳統的印刷電路板(printed circuit board, PCB)微影製程中，主要以具有光罩的鄰近式(proximity)或接觸式(contact)的曝光方式在光阻上進行曝光製程。然而，製作光…
6
在本研究中利用微影製程技術製備出奈米結構光阻在矽晶片上，並使用磁控射頻濺鍍分別濺鍍不同厚度之鋯基金屬玻璃薄膜，探討晶片上之光阻與鍍膜去除光阻後鋯基金屬玻璃之奈米結構之光柵現象與親疏水性質。 …
7
本論文主要是探討感光性材料之硬化機制並提出新的概念與方法於單層材料上製作3D微小元件。 在製程中是利用面成型加工技術，依感光性材料對不同波長有著不一樣的光敏感度之特性與自行設計鏡組來搭配平台以改變光…
8
本論文的研究方向是將無光罩微影技術結合積層製造之光成型加工技術，選用下照式成型系統，設計出能製作大面積微結構的曝光機。相較以往的顯微鏡微影系統，本系統單次曝光面積大，能製作出的微結構數量更多，配合高…
9
自動對準雙圖案微影技術(self-aligned double patterning lithography)是目前20奈米以下的主要微影技術之一，在微影技術的發展下，尺寸微小化使得雙圖案微影技術的…
10
本論文主要方向為積層製造(Additive Layer Manufacturing)系統結合無光罩微影(Maskless lithography)系統，並嘗試進行大面積影像拼接處理。 積層製造顧名…