檢索結果:共3筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="氧化鋅" and ckeyword.raw="離子束濺鍍法"
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本研究以雙離子槍反應式離子束濺鍍法沉積摻鉺氧化鋅薄膜,藉由控制靶材所照射的離子電流以控制濺擊產率而達到控制鉺摻雜濃度之目的。在本實驗中摻鉺的氧化鋅薄膜可以得到位於近紅外範圍之1.0 (4I11/2 …
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以離子濺鍍法,在沈積氧化鋅薄膜同時,除了通入氬氣作為轟擊靶材之離子源,也直接加入氮氣,可將氮摻雜到氧化鋅薄膜,形成摻氮氧化鋅(ZnO:N)。以XRD分析成長溫度為300C之摻氮氧化鋅薄膜中只有氧化…
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使用毛細式離子源濺鍍氧化鋅靶,沉積氧化鋅薄膜於晶向(100)矽基板上,隨後於氧與氮氣氛下退火,討論不同退火條件對氧化鋅薄膜特性之影響。 XRD顯示未退火之氧化鋅薄膜無任何繞射峰值,ZnO(002)繞…