檢索結果:共5筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="拋光墊修整" and ckeyword.raw="拋光墊修整"
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在化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/ Polishing, CMP)製程中,需要鑽石修整器來維持拋光墊表面之穩定性,而拋光墊表面形貌會直接影響…
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化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/Polishing, CMP)製程在半導體製程中對於積體電路的製造品質有著舉足輕重的影響,將鑽石修整技術應用…
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半導體為世上重大發明且與現代生活密不可分,隨著世代的進化變遷,不斷的追求微細化及線路層層堆疊而對於晶片的考驗也越來越嚴苛,全域平坦化表面將成為相當重要得關鍵技術。化學機械拋光/平坦化(Chemica…
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本研究目的為建立搖臂式拋光墊修整之數位雙生系統,整合搖臂控制模組及動態量測模組透過Modbus通訊協議連接實體搖臂與應用程式,可收集搖臂之實時資料,並透過彩色共軛焦感測器架設於搖臂上,以近似阿基米德…
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在化學機械平坦化製程中,化學拋光液與晶圓移除之殘碎會導致拋光墊表面產生鈍化的情況,因此透過拋光墊修整將拋光墊表面已鈍化表面移除,維持穩定的晶圓移除率。本研究將探討修整力量下的拋光墊修整移除率與表面形…