檢索結果:共1筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="力量分析" and ckeyword.raw="拋光墊修整"
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在化學機械平坦化/拋光(Chemical Mechanical Planarization/ Polishing, CMP)製程中,需要鑽石修整器來維持拋光墊表面之穩定性,而拋光墊表面形貌會直接影響…