簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: cdept.raw="光電工程研究所" and ckeyword.raw="離子束濺鍍法"


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    氧化鎳之p 型透明氧化物導電薄膜之特性分析
    • 光電工程研究所 /104/ 碩士
    • 研究生: 林牧杰 指導教授: 趙良君
    • 本研究利用反應式離子束濺鍍法成功地沉積了氧化鎳薄膜, 並且研究氧氣流量比及沉積基板溫度對於氧化鎳薄膜的光電特性影響。研究結果顯示,在 300℃下的NiO(200)的半高寬會比在 150℃下的NiO(…
    • 點閱:337下載:0
    • 全文公開日期 2021/06/14 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    反應式離子束濺鍍法沉積之氧化銀(AgxO)薄膜熱穩定性探討
    • 光電工程研究所 /101/ 碩士
    • 研究生: 曾奕嵐 指導教授: 趙良君
    • 此實驗以反應式離子束濺鍍法成長氧化銀薄膜,採用毛細式離子源(6∼8 kV、100∼500 uA)及陽極層離子源 (0.7 kV、13.5 mA) ,同時通入氬氣及氧氣,氬氣為濺鍍氣體,氧氣為反應氣體…
    • 點閱:419下載:0
    • 全文公開日期 2018/06/20 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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