檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cdept.raw="光電工程研究所" and ckeyword.raw="氧化銀"
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此實驗以反應式離子束濺鍍法成長氧化銀薄膜,採用毛細式離子源(6∼8 kV、100∼500 uA)及陽極層離子源 (0.7 kV、13.5 mA) ,同時通入氬氣及氧氣,氬氣為濺鍍氣體,氧氣為反應氣體…