檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cdept.raw="光電工程研究所" and ckeyword.raw="反應式濺鍍"
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本實驗使用反應式離子束濺鍍法在矽(100) 基板上沉積氧化鋅掺雜鋁薄膜,利用改變基板溫度、鋁摻雜含量來觀察薄膜特性的改變,分別使用200℃、100℃及室溫來成長薄膜。200℃沉積之晶粒大小最大約為9…