檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cadvisor.raw="陳炤彰" and ckeyword.raw="電化學機械拋光"
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化學機械拋光是半導體製程中可達到全域性平坦化的一項重要技術,但是化學機械研磨應用於銅導線與以Low-k材料為主的介電層之多層導線架構平坦化製程時,易造成殘留應力、刮痕與平坦化後後續清洗等都是需要克服…