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研究生: 余雅婷
Ya-ting Yu
論文名稱: 由元素矽水解法合成無機二氧化矽奈米顆粒及以RAFT 活自由基聚合法合成用於不飽和聚酯、乙烯基酯及環氧樹脂之奈米級無機二氧化矽/有機高分
Synthesis of nano-scale colloidal silica from elemental silicon by hydrolysis, and synthesis of nano-scale inorganicsilica/organic polymer core-shell particle as additives by RAFT living free radical polymerizations for unsaturated polyester, vinyl ester, and epoxy resins
指導教授: 黃延吉
Yan-Jyi Huang
口試委員: 陳崇賢
none
邱文英
none
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工程學院 - 化學工程系
Department of Chemical Engineering
論文出版年: 2013
畢業學年度: 101
語文別: 中文
論文頁數: 147
中文關鍵詞: 二氧化矽表面改質劑可逆加成-斷裂鏈轉移RAFT無機/有機核殼型顆粒(CSP),不飽和聚酯乙烯基酯環氧樹脂抗體積收縮性機械性質活高分子
外文關鍵詞: Silica, modifier, Reversible Addition-Fragmentation Chain Transfer, inorganic/organic core-shell particle (CSP), unsaturated polyester (UP), vinyl ester resins (VER), epoxy (EP), low-profile additives (LPA), living polymer
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本文以元素矽水解法合成不同奈米粒徑(15 nm ~ 60 nm)的二氧化矽為無機/有機核殼型顆粒(CSP)的核心,經表面改質劑( 4-(Chloromethyl)phenyltrimethoxysilane )改質後,利用可逆加成-斷裂鏈轉移之活自由基聚合作用(RAFT),於二氧化矽表面接枝高分子,形成無機/有機核殼型顆粒(CSP),可當成不飽和聚酯、乙烯基酯及環氧樹酯的特殊添加劑,以改善熱固性樹脂基材之物性,如抗體積收縮性質及機械性質。
將含有化學結構Z-C(=S)-S-R之RAFT鏈轉移試劑3-Benzylsulfanylthiocarbonylsufanylpropionic Acid (BSPA),接枝於經苯甲氯表面改質後的二氧化矽(即SiO2-Cl),形成接枝鏈轉移試劑之二氧化矽(SiO2-BSPA),再以 SiO2-BSPA 為鏈轉移試劑,經由RAFT 溶液聚合途徑聚合有機之丙烯酸甲酯(MA)、甲基丙烯酸環丙氧酯(GMA)及丙烯酸丁酯(BA)單體,形成無機/有機核殼型顆粒( SiO2-PBA-b-PMA 或 SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA))。反應中的鏈轉移試劑(BSPA)在RAFT聚合作用過程中會形成休眠基團,緩慢的進行聚合作用,可控制接枝聚合物的分子量及分子量分佈,所得到核殼顆粒之高分子外殼,並具活高分子(living polymer)特性。
  本研究所合成之無機/有機奈米級核殼顆粒(CSP),可用作不飽和聚酯(UP)、乙烯基酯(VER)及環氧樹脂(EP)之抗收縮劑(LPA)。本文中亦探討了這些CSP對苯乙烯(St)/VER/CSP三成份系統聚合固化後樣品之機械性質的影響


In the synthesis of the SiO2-PBA-b-PMA and SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA), the nano-scale colloidal silica (15~60nm) was obtained by the hydrolysis of elemental silicon. Then silica was reacted with 4-(chloromethyl)phenyltrimethoxysilane to produce benzyl chloride functionalized silica(SiO2-Cl) first, followed by reacting with BSPA to make BSPA-grafted silica particle (SiO2-BSPA). Later, SiO2-BSPA can be used as a RAFT agent to make SiO2-PBA-b-PMA (or SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)) via Reversible Addition -Fragmentation Chain Transfer (RAFT) polymerization.

During RAFT polymerization, the CTA chain transfer agent would become a dormant specimen, which may slow down the polymerization rate, and the molecular weight and molecular weight distribution can then be controlled. The SiO2-PMA (or SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)) has a characteristic of living polymer. By characteristic of living polymer, SiO2-PMA (or SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)) was utilized as a macro-CTA to mediate chain extension polymerization of butyl acrylate(BA) monomers, and diblock copolymer grafted silica (i.e SiO2-PBA-b-PMA or SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)) was prepared.

The synthesized SiO2-P(MA-co-GMA) and SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA), namely, inorganic/ organic core-shell particle (CSP) can be employed as low-profile additives (LPA) for low-shrink unsaturated polyester (UP), vinyl ester resins (VER), and Epoxy (EP) resin. The effect of the CSP on the mechanical properties of the Styrene (St)/VER/CSP ternary system after the cure have also been investigated.

目錄 摘要I AbstractII 目錄III 圖目錄VIII 表目錄XI 第一章 緒論1 1-1 二氧化矽1 1-2 高分子複合材料1 1-3 不飽和聚酯2 1-4 環氧樹脂(Epoxy Resin )[16-21]3 1-5 乙烯基酯樹酯(Vinyl Ester Resin, VER)6 1-6 抗收縮劑6 1-7 增韌劑7 1-8 研究範疇8 第二章 文獻回顧9 2-1 二氧化矽(Silica)[1, 36-37]9 2-1-1 二氧化矽的製備[1, 32, 38-39]10 2-2 自由基聚合法(Free Radical Polymerization)12 2-3 溶液聚合法(Solution Polymerization)[42]15 2-4 活性自由基聚合法[43]16 2-4-1 原子轉移自由基聚合法(ATRP)17 2-4-2 穩定自由基聚合法(SFRP)19 2-4-3 可逆加成-斷裂鏈轉移聚合法(RAFT) [29-31, 52-55]20 2-5 不飽和聚酯與苯乙烯之交聯共聚合反應23 第三章 實驗方法及設備26 3-1 實驗原料26 3-1-1 實驗藥品26 3-1-2 乙烯基酯樹脂30 3-2 實驗儀器及設備32 3-2-1 核磁共振光譜儀 (NMR)32 3-2-2 傅立葉轉換紅外線光譜儀 (FT-IR)33 3-2-3 熱重分析儀 (TGA)34 3-2-4 膠體滲透層析儀 (GPC)35 3-2-5 元素分析儀 (EA)36 3-2-6拉伸測試37 3-2-7耐衝擊測試 (BPI)38 3-2-8波松比測試39 3-2-9破壞韌性測試40 3-2-10破壞能量40 3-2-11動態機械分析儀 (DMA)41 3-3 實驗方法42 3-3-1 鏈轉移劑3-(benzylsulfanylthiocarbonylsufanyl) propionic acid (BSPA) 之合成 [33-34, 61-65]42 3-3-2 元素矽水解合成二氧化矽 (Silica) [32, 66]44 3-3-3 活化二氧化矽粒子46 3-3-4 二氧化矽接枝鏈轉移試劑 (SiO2-BSPA) 之合成[34, 36, 43, 53, 67]47 3-3-5 二氧化矽接枝聚合物之合成 (SiO2-Polymer) [68-69]49 3-3-5-3 二氧化矽接枝外殼高分子50 第四章 結果與討論57 4-1鏈轉移劑3-(benzylsulfanylthiocarbonylsufanyl) propionic acid (BSPA)之分析58 4-1-1 鏈轉移劑BSPA之實驗步驟探討58 4-1-2 鏈轉移劑BSPA之NMR分析59 4-1-3 鏈轉移劑BSPA之FTIR結構分析63 4-2 二氧化矽之合成65 4-2-1 元素矽水解法合成膠體二氧化矽奈米顆粒(colloidal silica nanoparticles)[32]65 4-2-2 元素矽水解法合成膠體二氧化矽奈米顆粒之探討69 4-2-3 製備二氧化矽粉末70 4-2-4 二氧化矽結構之FTIR鑑定71 4-2-5 二氧化矽微觀型態之TEM圖73 4-3 二氧化矽接枝鏈轉移試劑結構之合成與結構分析78 4-3-1 二氧化矽接枝苯甲氯(SiO2-Cl)之結構分析79 4-3-2 二氧化矽接枝鏈轉移劑(SiO2-BSPA)之結構分析80 4-4 二氧化矽接枝聚合物之合成與結構分析[58, 62, 64-66]83 4-4-1 Act-Silica、SiO2-Cl、SiO2-BSPA、SiO2-PMA、SiO2-PBA-b-PMA、SiO2-P(MA-co-GMA)及SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)之TGA檢測84 4-4-2 NMR測其自由相高分子(free polymer)94 4-4-3 GPC測其溶液相自由高分子(free polymer)、固相接枝高分子(grafted polymer)分子量及DSC測定接枝高分子之玻璃轉移溫度(Tg)104 4-4-4 RAFT溶液聚合法合成二氧化矽接枝高分子(SiO2-PMA or SiO2-P(MA-co-GMA))之反應探討110 4-4-5 RAFT聚合聚合法合成二氧化矽接枝高分子(SiO2-PBA-b-PMA、SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA))之反應探討112 4-5 St/ VER (n=2)/CSP三成份系統之TEM微觀型態結構114 4-5-1 St/ VER (n=2)/SiO2-PBA-b-PMA-15nm三成份系統114 4-5-2 St/ VER (n=2)/SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)-15nm三成份系統114 4-5-3 St/ VER (n=2)/CSP-15nm三成份系統之體積收縮測試115 4-6機械性質研究122 4-6-1 St/VER(n=2)/CSP三成份系之耐衝擊強度122 4-6-2 St/VER(n=2)/CSP三成份系之楊氏模數123 第五章 結論129 第六章 建議與未來工作132 第七章 參考文獻133 圖目錄 圖 1 1雙酚A型環氧樹脂結構圖3 圖 2 1 ATRP 反應機制流程18 圖 2 2 RAFT 反應機制流程21 圖 2 3苯乙烯-不飽和多元酯共聚合反應中所有之可能反應示意圖[56]24 圖 2 4苯乙烯與不飽和聚酯樹脂經自由基交聯共聚合反應形成三度空間之網狀結構示意圖[58]25 圖 3 1 環氧樹脂的結構式30 圖 3 2 乙烯基酯樹脂的結構式31 圖 3 3萬能材料試驗機37 圖 3 4 (A)自動切口機 (B)耐衝擊測試機38 圖 3 5破壞韌性試片規格40 圖 4 1 BSPA之1H-NMR圖譜中各H質子吸收峰之化學位移(δ)60 圖 4 2 BSPA之13C-NMR圖譜中各13C核子吸收峰之化學位移(δ)62 圖 4 3 BSPA之FTIR圖譜64 圖 4 4初次成核(Dz=14.33 nm)之DLS粒徑分佈圖67 圖 4 5 一次成核(23.4 nm)之DLS粒徑分佈圖67 圖 4 6 二次成核(31.9 nm)之DLS粒徑分佈圖68 圖 4 7 三次成核(43.5 nm)之DLS粒徑分佈圖68 圖 4 8 四次成核(57.4 nm)之DLS粒徑分佈圖69 圖 4 9 水解元素矽合成二氧化矽之FTIR圖譜72 圖 4 10 溶液態懸浮15nm SiO2溶液稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖74 圖 4 11 溶液態懸浮20nm SiO2溶液稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖75 圖 4 12 溶液態懸浮30nm SiO2溶液稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖76 圖 4 13 溶液態懸浮40nm SiO2溶液稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖77 圖 4 14 溶液態懸浮60nm SiO2溶液稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖77 圖 4 15 乾燥後15nm SiO2粉末以水稀釋至0.001wt%,10萬倍之TEM圖78 圖 4 16 二氧化矽接枝苯甲氯官能基(SiO2-Cl)之FTIR圖譜81 圖 4 17 二氧化矽接枝鏈轉移試劑(SiO2-BSPA)之FTIR圖譜82 圖 4 18 15nm SiO2系列之Act- SiO2、SiO2-Cl、SiO2-BSPA、SiO2-PMA及SiO2-PBA-b-PMA之TGA圖。92 圖 4 19 15nm SiO2系列之Act- SiO2、SiO2-Cl、SiO2-BSPA、SiO2-P(MA-co-GMA)及SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)之TGA圖。93 圖 4 20丙烯酸甲酯(MA) 1H-NMR圖譜95 圖 4 21甲基丙烯酸環丙氧酯(GMA) 1H-NMR圖譜96 圖 4 22丙烯酸丁酯(BA) 1H-NMR圖譜97 圖 4 23自由高分子之聚丙烯酸甲酯(PMA)之1H-NMR圖譜100 圖 4 24 自由高分子之丙烯酸丁酯與丙烯酸甲酯共聚合物(PBA-b-PMA)之 1H-NMR圖譜101 圖 4 25自由高分子之丙烯酸甲酯(MA)與甲基丙烯酸環丙氧酯(GMA)之共聚合物之(P(MA-co-GMA))1H-NMR圖譜102 圖 4 26 自由高分子之聚丙烯酸丁酯與丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸環丙氧酯共聚合物之團聯聚合物(PBA-b-P(MA-co-GMA))103 圖 4 27 15nm之SiO2-PMA合成過程中於二氧化矽表面接枝PMA高分子之GPC圖譜105 圖 4 28 15nm之SiO2-PMA合成過程中於溶液相之PMA高分子(即free PMA)之GPC圖譜105 圖 4 29 15nm之SiO2-PBA-b-PMA合成過程中於二氧化矽表面接枝PBA-b-PMA高分子之GPC圖譜106 圖 4 30 15nm之SiO2-PBA-b-PMA合成過程中於溶液相之PBA-b-PMA高分子之GPC圖譜106 圖 4 31 15nm之SiO2-P(MA-co-GMA)合成過程中於二氧化矽表面接枝P(MA-co-GMA)高分子之GPC圖譜107 圖 4 32 15nm之SiO2-P(MA-co-GMA)合成過程中於溶液相之P(MA-co-GMA)高分子之GPC圖譜107 圖 4 33 15nm之SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)合成過程中於二氧化矽表面接枝PBA-b-P(MA-co-GMA)高分子之GPC圖譜108 圖 4 34 15nm之SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)合成過程中於溶液相之PBA-b-P(MA-co-GMA)高分子之GPC圖譜108 圖 4 35 15nm SiO2-PBA-b-PMA之外殼PBA-b-PMA DSC圖譜109 圖 4 36 15nm SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)之外殼PBA-b-P(MA-co-GMA) DSC圖譜109 圖 4 37二氧化矽表面進行RAFT聚合接枝反應之遮蔽效應示意圖[66]111 圖 4 38 St/VER (n=2)/5wt% SiO2-PBA-b-PMA 三成份於恆溫120℃聚合固化系統之TEM照片 (a) 2000x (b)15000x (c)50000x(d)100kx (e)200kx117 圖 4 39 St/VER (n=2)/10wt% SiO2-PBA-b-PMA 三成份於恆溫120℃聚合固化系統之TEM照片 (a) 2000x (b)15000x (c)50000x(d)100kx (e)200kx118 圖 4 40 St/VER (n=2)/5wt% SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA) 三成份於恆溫120℃聚合固化系統之TEM照片 (a) 2000x (b)15000x (c)50000x(d)100kx (e)200kx119 圖 4 41 St/VER (n=2)/10wt% SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA) 三成份於恆溫120℃聚合固化系統之TEM照片 (a) 2000x (b)15000x (c)50000x(d)100kx (e)200kx120 圖 4 42 添加不同比例之CSP之St/VER(n=2)/CSP三成份系統之體積收縮圖121 圖 4 43 添加不同比例之CSP之St/VER(n=2)/CSP三成份系統固化試片其耐衝擊強度126 圖 4 44 添加不同比例之CSP之St/VER(n=2)/CSP三成份系統固化試片其楊氏模數圖127 圖 4 45 添加不同比例之CSP之St/VER(n=2)/CSP三成份系統固化試片其抗張強度比較圖128 表目錄 表 1 1環氧樹脂結構式中n值大小與各項性質之關係[17]4 表 3 1 Epoxy (EPR)及Vinyl ester (VER)之分子特性31 表 3 2 二氧化矽接枝外殼高分子之SiO2-BSPA、BSPA、單體50 表 3 3 二氧化矽接枝雙區段共聚合物之SiO2-P1 or P2、Macro-RAFT、單體及起始劑之莫耳比53 表 4 1 BSPA 之1H-NMR圖譜中各吸收峰之化學位移(δ)61 表 4 2 BSPA 之13C-NMR圖譜中各吸收峰之化學位移(δ)61 表 4 3 BSPA之FTIR之官能基吸收峰63 表 4 4 元素矽水解合成二氧化矽顆粒粒徑、粒徑分佈、66 表 4 5 二氧化矽之FTIR官能基吸收峰71 表 4 6圖4-10隨機取樣20顆15nm SiO2顆粒,計算求其數目平均粒徑74 表 4 7 圖4-11隨機取樣20顆20nm SiO2顆粒,計算求其數目平均粒徑75 表 4 8 圖4-12隨機取樣20顆30nm SiO2顆粒,計算求其數目平均粒徑76 表 4 9 SiO2-Cl之FTIR官能基吸收峰79 表 4 10 SiO2-BSPA之FTIR官能基吸收峰80 表 4 11 Act-SiO2、SiO2-Cl、SiO2-BSPA、SiO2-PMA及SiO2-PBA-b-PMA之TGA燃燒後殘餘重量百分比90 表 4 12 TGA對SiO2-PMA及SiO2-PBA-b-PMA系統之各項計算結果90 表 4 13 Act-SiO2、SiO2-Cl、SiO2-BSPA、SiO2-P(MA-co-GMA)及SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)之TGA燃燒後殘餘重量百分比91 表 4 14 GA對SiO2-P(MA-co-GMA)及SiO2-PBA-b-P(MA-co-GMA)系統91 表 4 15 1H-NMR圖譜測得自由高分子(free polymer)之轉化率99 表 4 16 整體轉化率 C%99 表 4 17 15nm二氧化矽接枝高分子與自由高分子之GPC檢測結果104 表 4 18 15nm二氧化矽接枝高分子之DSC檢測結果105 表 4 19添加不同比例之CSP之St/VER(n=2)/CSP三成份系統之體積收縮數據116 表 4 20添加不同比例之CSP之三成份系統在120oC固化一小時123 表 4 21添加不同比例之CSP之三成份系統在120oC固化一小時124 表 4 22添加不同比例之CSP之三成份系統在120oC固化一小時125

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