檢索結果:共4筆資料 檢索策略: cdept.raw="機械工程系" and cdept.raw="機械工程系" and ckeyword.raw="雙繞射"
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本研究提出一套共面偵測分束器式光柵干涉儀,此套干涉儀採用「雙繞射式」的光路設計進行系統開發,透過光柵與反射鏡的搭配使通過光柵後的繞射光束再次穿過光柵形成二次繞射,用以引進加倍的的相位變化量,可有效提…
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本研究提出一套以「雙繞射」為設計概念進行系統開發的雙繞射式雷射光學尺,用以進行位移及旋轉角量測。此套雙繞射式雷射光學尺系統整合外差干涉術、光柵干涉術、雙繞射光路及分光技術等設計概念進行開發,使系統具…
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本研究以光柵干涉術作為主要的量測基礎,提出了一套新式的微型化雙繞射共路徑式線性光學尺,其系統架構簡單,架設及校正容易,可用以進行精密的大行程位移量測。我們利用自行設計的稜鏡配合反射式光柵建構出「共路…
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隨著工業技術快速發展的同時,對於高精度與高性能的精密位移量測技術需求與日俱增,眾多量測技術中又以雷射干涉儀最具發展潛力。本研究提出一套創新的雙頻共面偵測雙繞射式雷射干涉儀,此套干涉儀以「光柵」作為技…