檢索結果:共5筆資料 檢索策略: "Scatterometry".ekeyword (精準)
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在半導體奈米量測自動化設備中,光學散射量測儀被視為取代傳統電子顯微鏡擷取微影圖案關鍵尺寸的重要技術,光學散射量測法的優點包含:量測速度快約為現有電子顯微鏡的三倍,可重複性量測同一微影圖案之關鍵尺寸,…
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半導體製程技術的進步促使元件結構的微縮,除了對製程技術迎來更大的挑戰,同時也需要更有效率的量測方法來驗證製程結果。關鍵尺寸(Critical dimension)量測技術是驗證製程標準的關鍵步驟。傳…
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As semiconductor especially IC industries continue to push to smaller device (smaller feature size)…
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本研究主要為將徑向基函數網路(radial basis function networks, RBFN)應用於同調傅立葉散射儀(coherent Fourier scatterometry, CFS…
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