檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Mask Optimization".ekeyword (精準)
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由於極紫外光微影系統技術尚未廣泛應用,目前生產線上仍大部分為ArF-193nm浸潤式微影系統,因此有許多研究者尋找此系統優化方法,其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應的最佳光源模…
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本論文將粒子群多目標最佳化(MOPSO)演算法整合到光源和光罩同步優化(SMO)過程中,以增強極紫外(EUV)光刻成像的性能。本研究開發了同步處理光源和光罩圖案的方法。對於自由形式的光源結構基於像素…
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微影製程有兩項重要指標,一能將光罩圖案潛像(Aerial Image)正確的轉移至光阻基材上,二提供足夠製程視窗(Process Window)以供應穩定的製程良率。本研究目的在針對投影式微影系統開…