檢索結果：共6筆資料 檢索策略： "解析度增強技術".ckeyword (精準)
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難，無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產，因此吸引許多研究者尋找改善方案，其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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近年對於晶片的需求大幅增長，而其電路設計圖案依賴於微影技術將其轉印至矽基板上，並且隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮、單位面積下所容納的電路圖案增多以及晶片尺寸增大的趨勢…
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近幾十年來半導體業廣泛應用微影技術將電路設計的圖形轉印至矽晶圓基板上，但隨著關鍵尺寸(Critical Dimension)的日漸微縮，物理的極限以及因越趨複雜的設計進而產生的曝光缺陷皆是製程上必須…
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幾十年來半導體工業仰賴微影光學將電路圖案之設計轉印至晶圓基板上，隨著電路設計圖樣日益縮小，目前已逼近至微影製程的光學極限，解析度增強技術(resolution enhancement techniq…
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在各國因應物聯網、大數據、高效能運算等的市場開發，仰賴大量DRAM 元件所需要大量計算及記憶體空間，隨著對DRAM 的需求增加和引入升級產品的需求，DRAM 市場將在未來幾年見證增長，全球市場競爭激…