檢索結果:共6筆資料 檢索策略: "實體設計".ckeyword (精準)
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多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
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由於下一代微影技術的延遲,對於現今10 奈米的製程節點,多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中,我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中,繞線器…
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定向自組裝多圖案混合式微影(directed selfassembly technology with multiple patterning lithography)非常適用於製造 10 奈米以下…
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定向自組裝 (directed self-assembly technology) 的技術在10 奈米以 下的導通孔 (contact/via) 的製造上展現了其優勢,為了讓導通孔有 足夠的重疊精度…
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使用嵌段共聚物(block copolymers, BCP)的定向組裝技術 (Directed self-assembly, DSA)已經是一項具有發展性的光刻技術,可以在集成電路上生成微小的圖像。…
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電路時序延遲逐漸成為決定電路效能的重要因素,時鐘樹的設計也日益重要。樹狀結構時鐘樹(tree-based clock network)由於擁有容易實現與分析的優勢,因此特別適合用於規模較小之晶片實作…