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    1

    以射頻電漿輔助化學氣相沉積法製備 P型矽薄膜及其光電性質之研究
    • 化學工程系 /97/ 碩士
    • 研究生: 朱炳勳 指導教授: 洪儒生
    • 本研究以三甲基硼(TMB)為摻雜物,使用射頻電漿輔助化學氣相沉積系統(RF-PECVD)於玻璃基材上成長p型非晶碳化矽以及p型微晶矽薄膜,並分析其結構及光電性質,期望能製備出適用於薄膜太陽能電池的p…
    • 點閱:301下載:0
    • 全文公開日期 2014/07/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    以電漿輔助化學氣相沈積法合成低介電係數膜及非晶矽薄膜之研究
    • 材料科學與工程系 /95/ 碩士
    • 研究生: 張鴻偉 指導教授: 洪儒生
    • 本論文以平板式電漿輔助化學氣相沉積系統為基礎,分為兩部分:第一部份為成長低介電係數薄膜,實驗採用一矽烷偶合劑γ-glycidoxypropyl-trimethoxysilane(γ-GPS)及辛氟甲…
    • 點閱:385下載:2

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    以射頻矽甲烷電漿化學氣相沉積系統製備氫化非晶矽膜之研究
    • 化學工程系 /97/ 碩士
    • 研究生: 李杰 指導教授: 洪儒生
    • 本研究係用射頻電漿系統沉積氫化非晶矽薄膜,調變製程重要參數如氫氣稀釋比、基材溫度、工作壓力以及電極間距等,藉由傅立葉轉換紅外光光譜儀(FT-IR)以及紫外光/可見光光譜儀(UV-VIS)等分析方法,…
    • 點閱:289下載:0
    • 全文公開日期 2014/07/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    以三丁基磷及三甲基硼成長 矽薄膜摻雜層及其光電性質的研究
    • 材料科學與工程系 /96/ 碩士
    • 研究生: 賴宜呈 指導教授: 洪儒生
    • 本論文以平板式電漿輔助化學氣相沉積系統,成長矽薄膜摻雜層及非晶矽薄膜太陽能電池,分別以三丁基磷與三甲基硼為摻雜原料,成長n型及p型非晶矽薄膜、p型的非晶矽及p型微晶矽薄膜,並探討其光電性質。 在成長…
    • 點閱:305下載:0
    • 全文公開日期 2013/08/05 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    5

    以超高頻矽甲烷電漿化學氣相沉積系統製備微晶矽膜之研究
    • 化學工程系 /96/ 碩士
    • 研究生: 陳宗麟 指導教授: 洪儒生
    • 本研究使用超高頻電漿化學氣相沉積系統來製備微晶矽薄膜,同時利用放射光譜儀來觀測電漿中成分的變化,並將放射光譜儀的量測結果和薄膜的結構特性做比較。並藉由調整電漿功率、反應總壓、上下電極間距、氫氣稀釋比…
    • 點閱:356下載:0
    • 全文公開日期 2013/08/04 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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