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本研究之一是利用FePd鍍料以熱蒸鍍之方式,將薄膜分別鍍在170 μm厚之矽基板上,使成長為單層、厚度為75 nm之連續薄膜。再利用快速熱退火將連續薄膜在500oC下分別持溫 ( 0、10、15、2…