檢索結果:共3筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="射頻濺鍍"
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本論文藉由物理氣相沉積系統(PVD)沉積矽薄膜於自組裝單分子薄膜(SAM)改質後的石英基板,並利用固相結晶法(SPC)使非晶矽薄膜結晶為多晶矽薄膜,最後使用SEM觀察表面型態;Raman光譜、XRD…
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本文探討鈦(Ti)薄膜及氧化銦錫(Indium tin oxide, ITO)薄膜沈積於不同基材的殘留應力。鈦以電子束蒸鍍及射頻濺鍍製程沈積200nm厚度薄膜於矽晶圓基材表面上;氧化銦錫以射頻濺鍍製…
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中文摘要 當薄膜沈積於基材上會受到製程參數與晶格常數的不同造成殘留應力的發生,而殘留應力將會影響薄膜之晶格結構與表面粗糙度,且隨著元件之使用環境、溫度、濕度等條件的變化,進而使得薄膜產生與基材剝離的…