檢索結果:共1筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="化學機械拋光" and ckeyword.raw="紫外線激發螢光技術"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
化學機械平坦化 (Chemical-Mechanical Planarization/Polishing, CMP)為半導體製造製程之一,隨著線寬持續往奈米等級發展,每層電路的平坦度變的格外重要,C…