檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cdept.raw="機械工程系" and ckeyword.raw="透鏡加熱效應"
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中 文 摘 要 近年來由於晶圓代工產品的多樣性及難以避免的待機時間之影響,所衍生之曝光條件的變動頻繁,因而導致半導體晶圓代工廠之微影製程技術,面臨透鏡加熱效應顯著的困擾,造成0.5μm多晶矽閘層的…