檢索結果:共2筆資料 檢索策略: cdept.raw="化學工程系" and ckeyword.raw="表面碳化"
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本論文使用兩個連續程序,在配備即場式X射線光電子能譜儀(XPS)和反射式高能電子衍射儀(RHEED)的超高真空化學氣相沉積(UHV-CVD)系統中,進行矽晶片(Si(111))的表面碳化和 SiC …
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本論文使用兩個連續即場式程序:反射式高能電子繞射儀(Reflection High-Energy Electron Diffraction, RHEED)和X射線光電子能譜儀(X-ray Photo…