檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cadvisor.raw="陳建光" and ckeyword.raw="電子束直寫系統"
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這個研究是藉由電子束微影技術製備奈米光阻結構表面性質研究。正型光阻被用來製作正方形洞矩陣,這些正方形洞矩陣和洞寬度與洞間距分別設計成200 nm至1200 nm和1:1~1:3。深寬比作為表面孔…