檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cadvisor.raw="郭俞麟" and ckeyword.raw="銀銅合金"
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化學氣相沉積(Chemical vapor deposition,CVD),為現在半導體製程薄膜階段主要方式,原因為優良的覆蓋率與可控制薄膜厚度,真空鍍膜的技術發展至今已經相當成熟,而本實驗將使用常…