檢索結果:共1筆資料 檢索策略: cadvisor.raw="方劭云 " and ckeyword.raw="自對準雙圖案微影"
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由於下個世代的微影技術發展嚴重落後,多重圖案微影技術被視為最有展望能突破20 奈米限制的技術。自動對準多圖案微影技術(self-aligned multiple patterning)透過間隙壁(s…