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在半導體製造上需要對製程機台進行即時資料之趨勢監控外,需要更多能精確判斷製程與機台狀態的新製程偵測技術與方法,特別是在先進的12吋晶圓廠上。在半導體製程技術持續的微縮下,製程的飄移或缺陷通常不是單一…