檢索結果:共1筆資料 檢索策略: ckeyword.raw="次級解析輔助特徵圖案擺置" and ckeyword.raw="次級解析輔助特徵圖案擺置" and ckeyword.raw="深度學習"
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隨著現代積體電路的複雜度不斷增加與製程節點的演進,電路可製造性在現代微影(Lithography)製程中正遭遇許多困難。次級解析輔助特徵圖案(SRAF) 擺置與光學鄰近修正(OPC)等重要的解析度增…