檢索結果:共2筆資料 檢索策略: cadvisor.raw="林顯群" and cdept.raw="機械工程系" and ckeyword.raw="流場均勻化"
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爐管為半導體產業常使用的製程設備,其良率為重要之技術指標,因此本研究針對垂直式爐管進行流場數值模擬,評估氣體噴注器的流量對於製程良率所產生的影響,藉由晶圓薄膜厚度之實測比對,找出氣體噴注器的出口流量…
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爐管為半導體產業經常使用的製程設備,其產能及良率為半導體市場之技術指標,因此本研究提出8吋垂直式爐管之流場數值模擬,評估流場對於氧化製程所產生的影響,再藉由實驗結果的比對,找出流場與良率的相關性,在…