本研究是利用磁控濺鍍的方式將Fe81-XCoXGa19薄膜 沉積於矽(100)基板上，其中X=0、3、7、11、15、19（at.%），且於各成分下沉積6種不同的厚度。本篇論文的實驗動機為探討不同鈷原子比例之添加對其於室溫下飽和磁致伸縮量和磁性性質的影響，且更進一步研究 Fe81-XCoxGa19 薄膜在高溫下的磁性表現。
經實驗分析後發現，整體而言添加鈷於鐵鎵合金系統中都可使飽和磁致伸縮量增加，且飽和磁致伸縮量λS在鈷成份X=19時都比其他鈷成份來的大。Fe62Co19Ga19薄膜樣品的飽和磁致伸縮量最大可到152.1 ppm，比未添加鈷之Fe81Ga19薄膜樣品大了2.7倍。藉由不同溫度下VSM的量測，並利用關係式λs (T) = λs (RT) × Î5/2 (T)可知在高溫(T ≦ 300°C)時Fe62Co19Ga19薄膜樣品的飽和磁致伸縮量依然為最大，且鈷成份X=19的居里溫度(Tc1)最高，表示Fe62Co19Ga19薄膜有機會用於磁微機電的應用上。

In this research, Fe81-xCoxGa19 films were deposited on Si(100) substrates by the DC magnetron sputtering method, and X=0、3、7、11、15、19 (atomic percent). For each alloy target, we prepared six different thickness samples. The motive of this research is to find the influence of saturation magnetostriction at RT and magnetic properties on different cobalt composition. Furthermore, we measured the magnetic properties of Fe81-xCoxGa19 films at higher temperature.
After measuring and analyzing, we can know that the substitution of Co for Fe could give rise to increases in λS, and samples with composition X=19 have the largest magnetostriction. It shows that the largest magnetostriction of samples with cobalt composition 19 atomic percent is 152.1 ppm, the value is about 2.7 times, relative to samples without cobalt, Fe81Ga19. By the measurement of VSM at different temperature, we can use the relationship λs (T) = λs (RT) × Î5/2 (T) and know the Fe62Co19Ga19 films have the largest and highest Curie temperature, Tc1. In conclusion, Fe62Co19Ga19 films have chances to apply on magnetic MEMS.

1.D. P. Pappas, C. R. Brundle, and H. Hopster, Phys. Rev. B, 45, 8169 (1992).
2.S. Muller, P. Bayer, C. Reischl, K. Heinz, B. Feldmann, H. Zillgen, and M. Wuttig, Phys. Rev. Lett, 74, 765 (1995).
3.M. T. Lin, J. Shen, W. Kuch, H. Jenniches, M. Klaua, C. M. Schneider, and J. Kirschner, Phys. Rev. B, 55, 5886 (1997).
4.R. A. Kelloge, A. B. Flatau, et. al. J. Appl. Phys. 91（2002）7821.
5.N. Srisukhumbowornchai, S. Guruswany, J. Appl. Phys. 90（2001）5680.
6.M. Wutigg, L. Dai, J. Cullen, Appl. Phys. Lett. 80（2002）1135.
7.N. A. Morley, A. Javed, and M. R. J. Gibbs. Journal of Applied Physics 105. 07A912（2009）.
8.S. F. Xu, H. P. Zhang, et. al. J.Phys. D: Appl. 41（2008）015002（4pp）
9.莊達仁，“VLSI製造技術”，高立圖書有限公司 (2000)。
10.陳元宗，國立清華大學材料科學工程研究所博士論文 (2006)。
11.D. A. Porter and K. E. Easterling, “Phase Transformations in Metals and Alloys”, Chapman & Hall (1992).
12.黃榮俊，物理雙月刊，十七卷六期，663-973 (1995)。
13.金重勳，磁性技術手冊，中華民國磁性技術協會出版 (2002)。
14.近角聰信著，張煦、李學養譯，“磁性物理學”，聯經出版事業公司 (1982)。
15.鄭振東，“實用磁性材料”，全華科技圖書股份有限公司（1999）。
16.劉國雄，林樹均，李勝隆，鄭晃忠，葉鈞蔚，“機械材料學”，全華科技圖書股份有限公司（1996）。
17.William F.Smith著，李春穎、許煙明、陳忠仁譯，“材料科學與工程”，高立圖書有限公司（1994）。
18.S. U. Jen, C. C. Liu. Thin Solid Films 471（2005）218-223.
19.G. Binnig, C. F. Quate, Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett. 56, 930 (1986).
20.V. J. Morris, A. R. Kirby, A. P. Gunning, Atomic Force Microscopy for Biologists, Imperial College Press: London (1999).
21.Dektak3 user’s manual, Sloan Technology (1991).
22.蔡宗霖，國立高雄師範大學物理研究所碩士論文 (2006) 。
23.Model 7407 Vibrating Sample Magnetometer user’s manual, Lake Shore.
24.陳力俊，“材料電子顯微鏡學”，行政院國科會精密儀器發展中心 (1994)。
25.劉奇青，國立海洋大學光電所碩士論文 (2008) 。
26.楊念庭，國立台灣科技大學機械研究所碩士論文 (2007)。
27.L. Dai , J. Cullen , M. Wuttig , T. Lograsso , E. Quandt , J. Appl. Phys.93(2003) 8627.
28.王柏仁，國立臺灣海洋大學光電科學系碩士論文(2008)。
29.劉皇昇，國立臺灣科技大學機械研究所碩士論文(2008)。
30.紀偉倫，國立臺灣科技大學機械研究所碩士論文(2009)。
31.江秉鴻，國立臺灣科技大學機械研究所碩士論文(2009)。
32.B. W. Wang, S. Y. Li, Y. Zhou, et. al. Journal of Magnetic Materials 320（2008）769-773.
33.S. U. Jen, T. L. Tsai, P. C. Kuo, W. L. Chi, W. C. Cheng, Journal of Applied Physics 107, 013914 (2010).
34.M. C. Zhang, X. X. Gao, H. L. Jiang, Y. Qiao, S. Z. Zhou. Journal of Alloys and Compound 431（2007）42-44.
35.C. Bormio-Nunes , R. Sato Turtelli , H. Mueller , R. Grossinger , H. Sassik , M.A. Tirelli , J. Magn. Magn. Mater. 290 (2005) 820.

36.E. M. Summers, T. A. Lograsso, M. Wun-Fogle. J Mater Sci (2007) 42:9582-9594.