檢索結果：共76筆資料 檢索策略： "Polishing".ekeyword (精準)
個人化服務 ：
排序：
每頁筆數：
已勾選0筆資料
1
拋光作業能使工件維持原本尺寸並降低工件本身表面粗糙度，是加工生產中重要的一步。但目前的人工拋光作業需要大量的人力及時間成本，而且執行拋光作業的環境會危害人體健康，故本研究開發出一套以機械手臂代替人工…
2
本論文主要研究自製橡膠拋光球對STAVAX模具鋼於六軸機械手臂進行表面精加工之研究。其球擠光加工參數乃參考先期研究，並使用CNC 切削中心機對試件作精銑與球擠光加工，最後將同期研究所得之較佳…
3
本研究主要為研發線上拋光墊監測系統，透過彩色共軛焦量測系統架設應用於旋轉式拋光機台，利用拋光盤面的旋轉運動以及搖臂的搖擺旋轉運動，搭配彩色共軛焦系統擷取高度資訊，進行線上監測之拋光墊表面形貌的掃描及…
4
本研究主要在建構用於化學機械平坦化拋光之拋光墊表面形貌分析，自行研發設計一款雷射共軛焦三維表面形貌掃描儀，並開發對拋光墊形貌分析之專用程式。主要方法為將雷射共軛焦儀架設於龍門線性馬達平台，回授平台X…
5
精密加工時，微小的加工參數變化及外在因素，將影響加工品質，但現實 的精密加工作業很少將影響加工品質之因素進行深入探討與研究。本研究將拋 光加工作業作為探討對象，並透過人機互動的架構控制拋光力，將…
6
本研究先建立不同研磨液溫度及不同研磨液體積濃度之無花紋研磨墊化學機械拋光矽晶圓的研磨移除深度理論模擬模式。我們先將矽晶圓浸泡在不同溫度及不同體積濃度研磨液後,接著進行原子力顯微鏡實驗,計算得出浸泡不…
7
化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)已成為積體電路製程之關鍵技術，其中拋光墊(Polishing Pad)在整個CMP製程中扮演相當重要的角…
8
精密單晶矽晶球可以透過計算同位素矽晶體中的原子數來確定亞佛加厥常數，在新制國際單位(New SI)中扮演重要的角色，但在精密球體的加工過程中，為了達到球體均勻地加工，必須瞭解球體於拋光製程中的運動狀…
9
單晶碳化矽晶圓在LED照明及高功率元件市場的潛力極大，目前單晶碳化矽晶圓的製造過程面臨許多挑戰，其最重要為碳化矽之高硬度及高抗化學性特性造成在化學機械拋光(Chemical Mechanical P…
10
本論文之目的為在CNC切削中心機上發展一自動化球拋光加工製程(Spherical-polishing process)，以田口實驗方法決定STAVAX塑膠模具用鏡面不銹鋼之最佳擠光與拋光參數，並將其…